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產(chǎn)品概述
       磁控濺射是在陰極靶表面上方形成一個正交電磁場，當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極為降區(qū)內(nèi)加破加速為高能電子后，并不直接飛向陰極而是在正交電磁場作用下作來回振蕩運動，在運動中高能電子不斷的與氣體分子發(fā)生碰撞，并向后者轉(zhuǎn)移能量，使之電離而本身變?yōu)榈湍茈娮?，消除了高能電子對基體的轟擊。

技術(shù)參數(shù)

設(shè)備型號	VLT-1000	VLT-1200	VLT-1300
鍍膜室尺寸	Φ1000×1250	Φ1200×1250	Φ1300×1500
極限真空度	10-4Pa	10-4Pa	10-4Pa
抽氣時間	空載常溫抽至5×10-3Pa＜10min
膜厚儀	配置振測厚儀
蒸發(fā)源	電阻蒸發(fā)
學(xué)生靶	一對（中頻）
圓柱靶	一支
高壓轟擊	3000V 600MA	3000V 600MA	3000V 300MA
工件偏壓	1000V 20A 500 40A	1000V 20A 500 40A	1000V 30A 500 60A
工件旋轉(zhuǎn)方式	單/6/8轉(zhuǎn)公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu)
配置機組	K-600、ZJP300	K-600、ZJP300	K-800、ZJ600
	2X-70	2X-70	2X-70
充氣系統(tǒng)	氣體質(zhì)量流量控制儀
烘烤溫度	350℃
控制系統(tǒng)配置	自控控制PLC及觸摸屏

說明：帶*配置由用戶退配，并可由用戶訂選造其他規(guī)格

設(shè)備原理圖示

極間靶磁控陰極
       配套了優(yōu)化的極間靶磁控陰極。對于普通的反射性鍍膜應(yīng)用而言，該設(shè)備將配套工作清潔用的中頻工位、等離子增強化學(xué)氣相沉積底層保護鍍膜、高速率濺射蒸發(fā)鍍膜、等離子增強化學(xué)氣相沉積表層保護鍍膜等相應(yīng)的膜層工藝室。

全自動工藝控制和整合
       設(shè)備的硬件和軟件設(shè)計可以與客戶生產(chǎn)線的傳送帶進行有機的結(jié)合。傳送帶負責(zé)將工件架傳送到設(shè)備上料工位，從而將工件傳送到設(shè)備的鍍膜工位，在工件進入下料工位時，傳送帶接收工件架并將工件傳送到下個生產(chǎn)崗位，設(shè)備通過與傳送帶的精確的配合，幫助客戶進一步提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本和提高產(chǎn)能。

滿足客戶的高生產(chǎn)要求
       包括人機對話界面在內(nèi)的控制系統(tǒng)可以提供故障診斷、報警功能和數(shù)據(jù)日志管理。設(shè)備各個組件如陰極、驅(qū)動裝置和閥門等的安裝位置充分的考慮到了維護、維修的工作需要。機型的設(shè)計、選材和制造充分的反應(yīng)了唯力特真空設(shè)備準(zhǔn)則。